簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果：共4筆資料 檢索策略： "趙崇禮".ccommittee (精準) and year="106"


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    1
    交叉多角度單顆鑽石修整軟韌彈性墊之研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 李梓豪   指導教授： 陳炤彰
    • 在化學機械平坦化 (Chemical Mechanical Polishing/Planarization, CMP)的製程當中，鑽石修整製通常用來修整拋光墊表面形貌以及維持工作能力，以確保製程中的…
    • 點閱：405  下載：4 

    2
    微細發泡射出成形於拋光墊製造及化學機械平坦化應用研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 李怡萱   指導教授： 陳炤彰
    • 本研究主要為結合超臨界微細發泡射出成形技術(Microcellular Injection Molding, MIM)與化學機械平坦化製程(Chemical Mechanical Planariza…
    • 點閱：305  下載：23 

    3
    紙漿複合材料之射出模造成形與機械性質分析研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 李嘉誠   指導教授： 陳炤彰
    • 本研究探討不同紙漿複合材料(Pulp composites material)之材料配比對於熱性質、流動性質與射出模造成形試片與成品之機械性質的影響，並找出最佳材料後，以不同之製程參數進行全因子射出…
    • 點閱：203  下載：21 

    4
    Study on Diamond Dressing for Non-Uniformity of Pad Surface Topography in CMP Process
    • 機械工程系 /106/ 博士
    • 研究生： Quoc-Phong Pham   指導教授： 陳炤彰
    • 化學機械平坦化/拋光（CMP）製程已被廣泛用於製造積體電路（IC)。為了使製造IC的成本降低，晶圓的尺寸越來越大，CMP製程就需要使用夠大的拋光墊。較大的拋光墊尺寸會導致在CMP製程中，拋光墊表面形…
    • 點閱：252  下載：14 
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